喷淋式兆声清洗
处于兆声（MHz）频域的高频超声波清洗被视为半导体晶圆清洗的关键方法，频率在900kHz-3000kHz的超高频超声波清洗，可达到200纳米以下的超高清洗精度。同时高频超声波的空化效用大幅减弱，从而减少了对晶圆表面的损伤风险。兆声清洗与28kHz，48kHz，68kHz等传统的超声波清洗相比，兆声清洗适用于更高洁净度的清洗行业。其被广泛应用于半导体硅片、高清镜头、显示屏等清洗行业。
兆声清洗通常分为喷淋式兆声清洗和槽式兆声清洗两种。喷淋式兆声清洗是通过高频超声波换能器将高频超声波通过水流传送出去，被清洗的物体接触带有高频超声波的水流而达到清洁处理的目的。喷淋式兆声清洗相对于传统的槽式清洗，具有更高的清洗效率，并避免了清洗水残留物的二次污染问题。槽式兆声清洗类似传统的超声波清洗，高频兆声清洗振子处于清洗槽的底部，在清洗池中形成高频超声波声场，槽式兆声清洗的优点是可多片晶圆同时清洗，更适合用于批量清洗。
特性
喷淋式兆声清洗喷头
超声波频率：420kHz，900kHz，1MHz，2MHz，3MHz
用于半导体硅片高精度清洗，清洗精度200nm以下。
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